Verre optique

  • Introduction

    Le verre optique est utilisé dans de nombreux domaines de la vie quotidienne et de la production industrielle : dans les produits grand public, dans les dispositifs médicaux et biotechniques, dans les applications industrielles et aussi de sécurité. Pour répondre aux exigences standard élevées en matière de fonctionnalité et de qualité, les informations sur les propriétés optiques, tels que l'indice de réfraction, les caractéristiques de dispersion, de transmission ou de réflectance, les valeurs chromatiques ou les épaisseurs de couche doivent être collectées rapidement, avec précision et fiabilité.

    Les systèmes pour la spectrométrie ZEISS permettent aux fabricants de verre optique d'évaluer constamment les propriétés et les paramètres au cours de la totalité de ce procédé complexe. L'analyse précise par NIR révèle les défauts même les plus négligeables en vue de garantir la perfection dans la fabrication du produit.

  • ThinProcess®

    ThinProcess® est un système sur banc pour la mesure de la réflectance spectrale et du facteur de transmission des lentilles pour toutes sortes d'applications optiques. Les têtes de mesure servent à des tâches comme la mesure de couleur sous un angle donné, des points de mesure grands ou minuscules, ou encore la suppression de la réflectance du côté arrière – même pour des échantillons de petite taille de 100 mm x 100 mm.

    ThinProcess® peut être utilisé soit comme un système sur banc avec un porte-échantillon, soit comme un système en ligne, monté directement dans la ligne de production. Ce système réglable facilement et individuellement s'adapte aux procédés de revêtement existants ou nouvellement conçus. Une vitesse de mesure élevée combinée à la précision et la répétabilité permet de gagner du temps et de l'argent tout en optimisant la vitesse de production.  

    Avantages
    • Analyse rapide et précise à la pleine vitesse de traitement
    • Archivage des données
    • Grande taille de point pour un contrôle de procédé en ligne rapide et précis des surfaces microstructurées
    • Mesure indirecte par l'intermédiaire de la fluorescence générée par UV
    • La spectroscopie d'émission optique stabilise le plasma dans la chambre à vide
    • Un boîtier de protection supplémentaire est inutile
  • Caractéristiques techniques
    Nombre de couches
    Fréquence d'échantillonnage jusqu'à 20 mesures/s 
    Plage de mesure  0,40 µm-25 µm | 0,25 µm-100 µm (en option) 
    Accès aux données  Fichier CSV, OPC, ES numériques et (SQL sur demande) 
    Intégration  Ethernet 
  • Téléchargement
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