ORION NanoFab

• Usinage rapide des structures en-deçà de 10 nm
  Utilisez les faisceaux d’ions de néon et d’hélium pour créer des structures délicates en-deçà de 10 nanomètres qui exigent une très haute-fidélité d’usinage. Que votre application soit l’enlèvement de matière par pulvérisation, la gravure au gaz ou encore la déposition ou la lithographie, ORION NanoFab, avec sa rapidité et son aisance, fait preuve d’excellence dans la fabrication en-deçà de 10 nm.
  
  
• Trois faisceaux en un instrument
  Utilisez le FIB au gallium pour enlever de la matière massive. Profitez des avantages du faisceau de néon pour la nanofabrication de précision rapide ou du faisceau d’hélium pour fabriquer des structures délicates en-deçà de 10 nm. Avec les faisceaux d’ions de néon et d’hélium ion, vous évitez la contamination par dépôt.
  
  
• Imagerie à haute résolution
  Avec une résolution d’imagerie de 0,5 nm, ORION NanoFab produit des images à haute résolution de votre échantillon dans le même instrument que celui que vous avez utilisé pour la fabrication. Obtenez de nouvelles connaissances avec des images qui présentent profondeur de champ 5 à 10 fois supérieure à celle des images obtenues avec les FE-SEM.
  
  

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Orion NanoFab inclut le moteur de création de nanomotifs et de visualisation NanoPatterning and Visualization Engine – un système de commande matériel et logiciel intégré. NVPE intègre un générateur de numérisation dédié de 16 bits pour chaque colonne NanoFab et le matériel d’acquisition à double signal prenant en charge la modélisation avancée en temps réel et la visualisation. Commandez entièrement le faisceau par une interface graphique : créez une gamme de formes entièrement modifiables, incluant des rectangles, trapèzes, polygones, lignes, polylignes, ellipses et taches. Effectuez un remplissage vectoriel de ces formes tout en conservant le contrôle complet de la variation de la dose et des paramètres de création de motif.

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