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ORION NanoFab

Votre microscope à faisceau d'ions pour les applications en-deçà de 10 nm

ORION NanoFab



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ORION NanoFab

EVO® HD – Hautes performances, flexibilité totale

Votre microscope multifaisceaux à ions 3 en 1 pour la nanostructuration en-deçà de 10 nm

Fabriquez des nanostructures à moins de 10 nm avec vitesse et précision. Avec ORION NanoFab, commutez en douceur entre les faisceaux de gallium, de néon et d’hélium :

  • Utilisez le faisceau au néon pour usiner des nanostructures à grande vitesse et obtenez une productivité élevée.
  • Utilisez le faisceau d’hélium pour créer des structures fragiles en-deçà de 10 nm.
  • Utilisez le FIB au gallium optionnel pour l’enlèvement de matière massive.


Avec ORION NanoFab, vous bénéficiez du seul système au monde qui couvre la gamme complète des applications de micro-usinage à la nanofabrication en utilisant des faisceaux d’ions de gallium, de néon et d’hélium intégrés dans un instrument unique.


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  • Usinage rapide des structures en-deçà de 10 nm
    Utilisez les faisceaux d’ions de néon et d’hélium pour créer des structures délicates en-deçà de 10 nanomètres qui exigent une très haute-fidélité d’usinage. Que votre application soit l’enlèvement de matière par pulvérisation, la gravure au gaz ou encore la déposition ou la lithographie, ORION NanoFab, avec sa rapidité et son aisance, fait preuve d’excellence dans la fabrication en-deçà de 10 nm.

  • Trois faisceaux en un instrument
    Utilisez le FIB au gallium pour enlever de la matière massive. Profitez des avantages du faisceau de néon pour la nanofabrication de précision rapide ou du faisceau d’hélium pour fabriquer des structures délicates en-deçà de 10 nm. Avec les faisceaux d’ions de néon et d’hélium ion, vous évitez la contamination par dépôt.

  • Imagerie à haute résolution
    Avec une résolution d’imagerie de 0,5 nm, ORION NanoFab produit des images à haute résolution de votre échantillon dans le même instrument que celui que vous avez utilisé pour la fabrication. Obtenez de nouvelles connaissances avec des images qui présentent profondeur de champ 5 à 10 fois supérieure à celle des images obtenues avec les FE-SEM.

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Orion NanoFab inclut le moteur de création de nanomotifs et de visualisation NanoPatterning and Visualization Engine – un système de commande matériel et logiciel intégré. NVPE intègre un générateur de numérisation dédié de 16 bits pour chaque colonne NanoFab et le matériel d’acquisition à double signal prenant en charge la modélisation avancée en temps réel et la visualisation. Commandez entièrement le faisceau par une interface graphique : créez une gamme de formes entièrement modifiables, incluant des rectangles, trapèzes, polygones, lignes, polylignes, ellipses et taches. Effectuez un remplissage vectoriel de ces formes tout en conservant le contrôle complet de la variation de la dose et des paramètres de création de motif.

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ZEISS ORION NanoFab

Trois faisceaux d’ions pour une flexibilité totale de la fabrication en dessous de 10 nm

Page(s): 19
Volume de fichier: 6.178 kB
Révision 2013-12-12

White Paper: Sub-10 nm Nano-machining with Multiple Ion Beams

for High Precision and High Throughput Applications

Page(s): 5
Volume de fichier: 1.923 kB
Révision 2012-09-16

White Paper: Advancing Oil and Gas Exploration with ORION NanoFab

Page(s): 6
Volume de fichier: 2.807 kB
Révision 2012-09-17

White Paper: ORION NanoFab: An Overview of Applications

Page(s): 6
Volume de fichier: 1.425 kB
Révision 2012-09-17

White Paper: ORION NanoFab - Plasmonic Devices Fabricated with Helium Ion Microscopy

Page(s): 5
Volume de fichier: 2.478 kB
Révision 2012-09-16

Information produit (en français - 4,02 Mo)

 

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