2004 – Les trois systèmes de microscope Axio Imager, SteREO Lumar.V12 et LSM 5 LIVE posent de nouveaux jalons dans la microscopie à fluorescence.
2004 – Après plus de 30 ans, un boîtier photographique de petit format est de nouveau commercialisé sous la marque Zeiss Ikon®.
2004 – La société Carl Zeiss SMT AG applique le procédé par immersion aux objectifs Starlith® destinés à la fabrication de micropuces (microplaquettes à semiconducteurs).
2004 – Antisalissante, la couche protectrice LotuTec® de Carl Zeiss facilite le nettoyage des verres de lunettes.
2004 – Le microscope d’opération OPMI® Pentero destiné à la neurochirurgie offre de vastes moyens de visualisation numériques.
2004 – Le groupe Carl Zeiss présente le modèle F25, sa première machine à mesurer tridimensionnelle applicable à la technique des microsystèmes.
2003 – Le procédé imageur ApoTome® permet de réaliser à moindres frais de très bonnes coupes optiques d‘échantillons biologiques marqués par des fluorochromes.
2002 – Le laser d’opération MEL 80 sert à traiter les amétropies plus rapidement avec une précision accrue.
2001 – La machine à mesurer à portique CenterMax® permet d’effectuer des mesures directement sur le site de production avec une exactitude comparable à celle garantie sinon uniquement dans une salle de contrôle climatisée.
2000 – Le verre Gradal Individual® innove par sa surface progressive qui est calculée en prenant en considération non seulement la puissance dioptrique prescrite, mais aussi les paramètres propres à chaque client, indispensables pour une adaptation optimale sur les lunettes.
2000 – Des procédés techniques d’avant-garde exploitent un faisceau électronique pour reproduire des structures avec une très haute résolution même sous un vide peu poussé ou à une faible tension.
2000 – La technologie à 193 nm mise au point par Carl Zeiss fait franchir à l'industrie des semiconducteurs un nouveau pas vers le progrès.
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